Silisyòm Metal Powder 325 may 99.9 pousan
Nou ofri tanbou sele oswa bokal pou pi gwo kantite, bay opsyon manyen ak depo pratik. Pou pi piti kantite, poud lan chaje nan sache oswa sak sele pou prezève bon jan kalite li yo epi fasilite manyen fasil.
Dekri teren
Deskripsyon
Silisyòm metal poud nou an se yon pwodwi-wo kalite ki fèt pou divès aplikasyon endistriyèl. Li pwodui atravè yon pwosesis manifakti kontwole pou asire bon jan kalite ak pèfòmans ki konsistan. Poud sa a gri-nwa se tise byen mouye, ak yon distribisyon gwosè patikil optimize pou itilizasyon espesifik. Li gen anpil yon nivo pite segondè epi li montre ekselan rezistans chalè, konduktiviti elektrik, ak estabilite chimik.
Spesifikasyon
Pite: 98 pousan kontni metal Silisyòm (Si)
Gwosè patikil: 200 may (75 mikron)
Konpozisyon chimik: Prensipalman Silisyòm (Si) ak kantite tras nan lòt eleman tankou fè (Fe), aliminyòm (Al), ak kalsyòm (Ca)
Sifas Sifas: 2-4 m2/g
Dansite esansyèl: 0.9-1.1 g/cm3
Kontni imidite: Mwens pase 0.5 pousan
Kontni oksijèn: Mwens pase 2 pousan
Karakteristik pwodwi:
Segondè Pite: Silisyòm metal poud nou an gen yon nivo pite 98 pousan, asire enpurte minimòm ak pèfòmans konsistan.
Gwosè patikil ultra-fin: gwosè patikil 200 may (75 mikron) ofri dispèsibilite ekselan ak fasilite entegrasyon nan divès pwosesis.
Rezistans chalè: poud lan montre rezistans chalè eksepsyonèl, ki fè li apwopriye pou aplikasyon pou wo-tanperati.
Kondiktivite elektrik: Silisyòm metal poud posede bon konduktiviti elektrik, sa ki pèmèt pou aplikasyon pou nan endistri elektrik ak elektwonik.
Estabilite Chimik: Poud lan se chimikman ki estab, minimize reyaksyon vle oswa degradasyon pandan itilizasyon.
Versatility: Li ka itilize nan yon pakèt endistri, ki gen ladan metaliji, pwodui chimik, elektwonik, ak metaliji poud.
Sèvis nou yo:
Fòmasyon Custom: Nou ofri fòmilasyon Customized nan poud metal Silisyòm pou satisfè kondisyon espesifik, tankou distribisyon gwosè patikil ak konpozisyon chimik.
Sipò teknik: Ekip devwe ekspè nou an bay sipò teknik konplè, ki gen ladan konsèy sou seleksyon pwodwi, itilizasyon, ak optimize.
Asirans Kalite: Nou bay priyorite mezi kontwòl kalite strik pou asire pèfòmans ki konsistan ak serye nan poud metal Silisyòm nou an.
Rechèch ak Devlopman: Nou envesti nan rechèch ak devlopman kontinyèl pou amelyore pèfòmans pwodwi nou yo ak eksplore nouvo aplikasyon.
Baj popilè: Silisyòm metal poud 325 may 99.9 pousan
Voye rechèch
Ou ka renmen tou