Ultrafine metalik Silisyòm poud

Ultrafine metal Silisyòm poud, yon klas dènye kri nan Silisyòm metal, ap revolusyone endistri ak pwopriyete inik li yo ak aplikasyon eksepsyonèl.

Voye rechèch

Dekri teren

Pwodwi Deskripsyon

Poud Silisyòm metal ultrafin se nan forefront nan teknoloji dènye kri, ofri potansyèl imans nan semi-conducteurs, depo enèji, kataliz, ak anpil lòt jaden. Pwopriyete inik li yo, makonnen ak pwogrè nan metòd pwodiksyon, te louvri nouvo avni pou rechèch ak inovasyon. Kòm rechèch ap kontinye ak endistri yo ekipe kapasite li yo, ultrafin metal Silisyòm poud se pare pou kondwi avansman atravè divès sektè, fòme yon avni defini pa dekouvèt gwo teknoloji.

Spesifikasyon

KONTAN CHIMIK
sik	98% 25 min
Sio2	1% max
H2O3	0.5% max
Femèl	0.4% max
F.C	0.4% max
Materyèl mayetik	0.02% max

product-450-450

Metòd gaz-faz: Teknik tankou depo chimik vapè (CVD) oswa plasma-enhanced depo chimik vapè (PECVD) ka itilize pou fè sentèz patikil ultrafin metal Silisyòm nan faz gaz la.

Fraisage mekanik: Fraisage mekanik enplike nan fanm k'ap pile ak fraktire materyèl Silisyòm esansyèl pou diminye gwosè patikil la nan nanoskal la.

Ablation lazè: Ablation lazè ka kreye patikil Silisyòm ultrafin lè w vaporize yon sib Silisyòm lè l sèvi avèk pulsasyon lazè ki gen gwo enèji.

Metòd elektwochimik: Teknik elektwochimik yo ka itilize tou pou pwodwi ultrafin metal Silisyòm poud ak kontwòl egzak sou gwosè patikil la.

Aplikasyon byomedikal: Ultrafine metal Silisyòm poud yo te eksplore pou sistèm livrezon dwòg, biosensors, ak aplikasyon byoimaging, akòz biocompatibility li yo ak potansyèl fonksyonalite sifas yo.

Selil Solè: Chèchè yo ap mennen ankèt sou itilizasyon poud Silisyòm metal ultrafin nan teknoloji avanse selil solè, tankou selil solè perovskit.

Faktori aditif: Ultrafine metal Silisyòm poud montre pwomès nan fabrikasyon aditif (enpresyon 3D) pou pwodwi estrikti konplèks ak amelyore pwopriyete mekanik.